产品技术
白色照明光源垂直照射到待测薄膜，一部分光经过薄膜上表面的反射，返回到分光仪。另一部分透过薄膜上表面，经过薄膜与底层之间的界面反射，返回到分光仪。这两束光在分光仪的光电转换器表面重合，形成分光干涉条纹。根据分光干涉条纹的周期和薄膜厚度的关系，利用傅立叶变换方法，解析薄膜的厚度。在薄膜厚度解析过程，利用不同类型材料的相应参数修订解析模型，从而进一步提高不同类型材料膜厚测量的准确性
应用领域
可应用于光伏、高分子材料薄膜层的厚度测量, 半导体（硅，单晶硅，多晶硅）、液晶显示屏测量、汽车玻璃、光学镀膜测量、聚合物涂料、太阳能电池薄膜测量
薄膜厚度和分光干涉条纹之间关系示意图
| 产品型号 | 光学膜厚仪 | ||||
|---|---|---|---|---|---|
| 产品编号 | RQ - 01 | RQ - 02 | RQ - 03 | RQ - 04 | |
| 测量类型 | 薄膜型 | 常规型 | 常规型 - II | 硅专用型 | |
| 波长范围 | 190 - 1100nm | 350 - 1020nm | 380 - 960nm | 950 - 1100nm | |
| 测量厚度 | (n = 1.5) | 1nm - 50μm | 10nm - 80μm | 500nm - 260μm | 10μm - 1400μm |
| (n = 3.5) / Si | u | u | 1μm - 75μm | 5μm - 600μm | |
| 准确度 | 0.2% 或 1nm（取较大值） | 0.2% 或 2nm | 0.4% 或 5nm | ||
| 重复性 | 0.1nm | 0.2nm | 1nm | ||
| 测量层数 | 单层和多层 | 单层 | 单层 | ||
| 分辨率 | 0.1nm（测量结果显示最小值） | ||||
| 测量模式 | 反射法 | ||||
| 入射角 | 90° | ||||
| 测试材料 | 透明或半透明的薄膜材料 | ||||
| 测量时间 | 100ms/Point（最大频率 300HZ） | ||||
| 工作距离 | 10 - 50mm（物镜前端至样品表面距离） | ||||
| 测量视野 | 25μm - 1mm（和使用的物镜有关） | ||||
| 在线测量 | 可以（适用于多通道测量） | ||||