采用光学干涉位移传感器对纳米级、亚微米级超薄透明材料或超薄透明涂层进行厚度测量、形貌测量。

测量范围：1nm~100μm；采样频率： 10KHz；

重复精度：2~10nm；线性精度：±20nm

光学膜涂层等超薄透明材料、透明涂层厚度的高精度测量。

钙钛矿、半导体晶圆、光刻胶厚度检测。

离型膜涂层、锂电池极片边缘PI胶透明涂层测厚。