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光刻胶厚度测量

来源:本站    作者:常州锐奇精密测量技术有限公司    发布时间:2025-04-01 17:42:03    浏览量:21


测量应用:光刻胶厚度一致性在线测量

测厚方案:光学膜厚仪

测量方式:接触式测量、非接触式测量。


锐奇膜厚仪应用行业领域

可应用于光伏、高分子材料薄膜层的厚度测量, 半导体(硅,单晶硅,多晶硅)、液晶显示屏测量、汽车玻璃、光学镀膜测量、聚合物涂料、太阳能电池薄膜测量。


产品型号


光学膜厚仪


产品编号


RQ-01


RQ-02


RQ-03


RQ-04


测量类型


薄膜型


常规型


常规型- Ⅱ


硅专用型


波长范围


190-1100nm


350-1020nm


380-960nm


950-1100nm


测量

厚度


(n=1.5)


1nm-50µm


10nm-80µm


500nm-260µm


10µm-1400µm


(n=3.5)/Si


u


u


1µm-75µm


5µm-600µm



0.2%或 1nm(取较大值)


0.2%或 2nm


0.4%或 5nm



0. 1nm


0.2nm


1nm


测量层数


单层和多层


单层


单层



0.1nm(测量结果显示最小值)


测量模式


反射法



90 °


测试材料


透明或半透明的薄膜材料


测量时间


100ms/Point(最大频率 300HZ)


工作距离


10-50mm(物镜前端至样品表面距离)


测量视野


25µm-1mm(和使用的物镜有关


在线测量


可以(适用于多通道测量)


图片13.jpg图片14.png

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